中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

科技时代,各个企业都在追逐更高端、工艺更先进的产品,就比如智能手机所用到的芯片,二十多年时间的的迭代,已经精准到了5nm水平。高端芯片的生产,不仅对制造技术有着极高的要求,对生产设备工艺的要求也是越来越高,就比如EUV光刻机。

全球能生产高端EUV光刻机的只有ASML,但其中只有10%的技术是ASML自己的,其余90%来自世界各国,其中美国占了20%,由于相关限制,我们暂时几乎是不可能买到的。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

在华为被断供芯片后,我们彻底认识到了半导体产业链中存在的问题,想要实现中国芯,打破制造设备的垄断是必须要走的一步。

但EUV光刻机仅核心元器件的数量就不止10万个,据说美国科学家仅研究其中一个零件就花费了10年的时间。可想而知,我们若想完成EUV光刻机的自研,难度会有多大,更何况,我们连组装的技术和图纸都没有。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

在这样的情况下,工程院士张钹教授指出,中国芯要两条腿走路,在研发传统技术设备的同时,也要注重创造与创新,发展新航道。

需要强调的是,目前市场上主流的硅基电子芯片,其最先进的工艺已经逼近物理极限,顶到了天花板,没有再发展的余地了。在这样的情况下,目前全球都在寻找新型半导体材料或者下一代芯片来替代。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

最热门的就是光量子芯片了,集成光量子芯片最早是在2008年由英国提出的理论。

光量子芯片与传统芯片比起来,有着明显的优势,更重要的是它的制造无需EUV光刻机。

光量子芯片是由光做载体,操控精度更准确,稳定性高,不易受外界的干扰,而且存储的信息保存时间长。如果实现量产的话,那么芯片的生产成本将会大幅度降低,将会带来一个全新的半导体时代。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

在光量子芯片这个崭新领域的研发上,各国处于同一起跑线。在2018年,美国就制定了为期十年的量子计划;谷歌、英特尔等公司都在对光量子芯片进行研究;欧美也研究量子也投入了14万亿人民币;我国在十四五规划中,格外强调的也是量子技术的发展方向。

好消息,在这个具有划时代意义的领域,中国团队再发力,率先取得了成果。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

近日,中国科研科学院的一篇论文成功引爆了全球科技界,论文的主要内容就是我国科研团队已经成功研发出了光量子芯片。美国科学家们表示祝贺的同时,也表达出了对全球芯片格局的担忧。

要知道,虽然近些年全球芯片产业分工明确,即便这两年遇到了芯片供应短缺的问题,但是美国依然掌握着市场的主导权。

中国团队再发力,光量子芯片研发完成,绕开EUV光刻机

而光量子芯片的成功问世,将意味着美国科技“霸权”的滑落,甚至台积电、三星引以为傲的5nm、3nm制程技术都将失去意义。更重要的是,华为等中企也将摆脱传统高端芯片的限制,再也没有绊脚石。

不过,光量子芯片距离大规模量产还有不少技术限制。因为光量子本身的温度接近绝对零度,也就是在零下273.15度才能正常工作,另外光的极易消耗性也是需要克服的技术问题之一。

不过我国科研团队在光芯片领域取得的成就还是十分值得肯定的,在这个新航道上,我们已经实现了领跑,甩开了身后的竞争对手。我们完全有理由我国科学家能够克服光芯片量产过程中的技术难题,早日实现中国芯!

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投稿时间:2021-04-05  最后更新:2021-05-13

标签:光量子   光刻   芯片   华为   量子   量产   美国   中国   团队   我国   全球   技术

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