新型光刻机专利曝光,上海微电子的技术储备如何?

上海的刻蚀机技术已经达到3nm了,现在光刻机技术又创世界领先水平。可以预计,在两年内上海的芯片技术可以超越台积电和三星,引领世界潮流。




多次见到此类问话,其动机令人严重怀疑。当心间谍利用网民公开捞情报!!!

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投稿时间:2021-10-27  最后更新:2022-04-11

标签:光刻   上海   技术   微电子   当心   间谍   动机   网民   情报   芯片   专利   世界

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